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        新唐科技發(fā)布高功率紫外激光二極管(379 nm, 1.0 W)

        日本京都2026年1月21日 /美通社/ -- Nuvoton Technology Corporation Japan(以下簡稱"NTCJ")于1月20日宣布,開始量產(chǎn)其高功率紫外半導(dǎo)體激光器(379 nm, 1.0 W)。該產(chǎn)品采用直徑9.0毫米的CAN封裝(TO-9),可實現(xiàn)行業(yè)領(lǐng)先(*)的光功率輸出。通過NTCJ專有的器件結(jié)構(gòu)和先進(jìn)的高散熱封裝技術(shù),該產(chǎn)品實現(xiàn)了短波長、高功率和長壽命這三個紫外半導(dǎo)體激光器過去難以突破的特性,有助于提升先進(jìn)半導(dǎo)體封裝無掩模光刻的圖形化精密度和生產(chǎn)效率。

        (*)截至2026年1月16日,基于NTCJ對波長為379 nm、TO-9 CAN封裝、在25°C殼溫(Tc)下連續(xù)波(CW)運行的半導(dǎo)體激光器的研究。

        主視覺圖:https://cdn.kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M108245/202601072090/_prw_PI1fl_x5FsfwAW.jpg

        圖片:https://cdn.kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M108245/202601072090/_prw_PI2fl_038KkhpF.jpg

        隨著人工智能(AI)的發(fā)展推動信息處理能力需求增長,對半導(dǎo)體性能的要求較以往也在不斷提高。另一方面,隨著晶體管微縮化發(fā)展接近其物理和經(jīng)濟(jì)極限,半導(dǎo)體后端封裝技術(shù)和先進(jìn)半導(dǎo)體封裝技術(shù)(通過并排排列或垂直堆疊多個半導(dǎo)體芯片的集成方案)正引起關(guān)注。

        這些封裝技術(shù)的演進(jìn),離不開無掩膜曝光技術(shù)的支持。作為無掩模光刻技術(shù)中的關(guān)鍵光源之一,半導(dǎo)體激光器面臨著向更短波長(接近i線365 nm)和更高輸出功率發(fā)展的不斷增長的需求,以實現(xiàn)更精細(xì)的線路和提高設(shè)備產(chǎn)能。為滿足這些要求,NTCJ憑借40多年的激光設(shè)計和制造經(jīng)驗,開發(fā)并商業(yè)化了波長為379 nm、輸出功率達(dá)1.0 W的紫外半導(dǎo)體激光器。

        紫外半導(dǎo)體激光器通常存在由于低光電轉(zhuǎn)換效率(WPE)引起的顯著熱量產(chǎn)生問題,以及由紫外光引起的器件退化傾向,這使得在1.0 W以上的高輸出水平下實現(xiàn)穩(wěn)定運行變得困難。為解決這一問題,NTCJ采取了雙管齊下的方法,同時專注于"提高WPE的器件結(jié)構(gòu)"和"有效散熱的高熱傳導(dǎo)封裝技術(shù)",成功開發(fā)出一款兼具短波長、高功率和長壽命的產(chǎn)品:1.0 W紫外(379 nm)激光二極管。這有助于延長紫外光光學(xué)器件的壽命。

        該產(chǎn)品作為NTCJ的"基于半導(dǎo)體激光的汞燈替代產(chǎn)品"系列的新成員,為客戶提供了新的選擇。

        NTCJ將在美國舊金山舉行的SPIE Photonics West 2026展會以及日本橫濱舉辦的OPIE'26展會的展臺上展示這款新產(chǎn)品的詳細(xì)信息。NTCJ誠摯期待您的蒞臨。

        產(chǎn)品詳情,請訪問:https://nuvoton.co.jp/semi-spt/apl/rd/?id=1100-0172

        關(guān)于Nuvoton Technology Corporation Japan:https://www.nuvoton.co.jp/en/

        SPIE Photonics West 2026新唐展位網(wǎng)頁:https://spie.org/ExhibitorDetail?ExpoID=5022&ExhibitorID=105454

        OPIE(國際光學(xué)與光電技術(shù)展覽會):https://www.opie.jp/en/

        消息來源:Nuvoton Technology Corporation Japan
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        關(guān)鍵詞: 電腦/電子 半導(dǎo)體
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